Cchip-0019型紫外光刻机主要用于常规微型器件、结构的微细加工及微流体结构、MEMS、双向可控硅、声表面波器件、大功率整流器及石英晶体谐振器等特种器件、结构的双面深度微细加工。此外，该设备还可作为相关实验设备广泛应用于高校及研究所开展微细加工工艺研究。

 

1. 结合CCD图像对准技术、采用紫外LED平行光照明及手动对准工件台的总体设计思路，结构新颖，整机性能优，曝光操作直观、方便。
2. 掩模版取放倒置吸附、样片取放采用推拉式基准平板、真空吸附的方式，方便快捷，工作效率高。
3. 新颖的高精度、多自由度掩模-样片精密对准工件台结构设计，使掩模-样片的对准精度及速度得到提高。

 

1）曝光面积：110mm×110mm

2）曝光波长：365nm： 40mW/cm2

3）分辨力：0.8mm

4）显微镜扫描范围：X：±50mm，Y：±20mm

5）对准精度： ±0.5mm

6）掩模尺寸：3英寸、4英寸、5英寸

7）样片尺寸：2英寸、3英寸、4英寸；厚度0.1mm--5mm

8）曝光方式：定时（ 方式）

9）照明不均匀性：2%（ f100mm范围）

10）掩模相对于样片运动行程：X: ±5mm; Y: ±5mm; q: ±6度

11）曝光光源：紫外LED

12）曝光强度：40mW

13） 胶厚：350 mm

14）光源平行性：＜1.8°

15）对准采用双视场对准显微镜：通过CCD+显示器对准，光学合像，光学+电子放大400倍

16）曝光头在曝光启动时，水平方向自动伸出，曝光结束后，水平方向自动缩回；

17）采用4.6英寸高灵敏度触碰式液晶屏，可直接设置曝光参数，无需鼠标和键盘；

18）掩膜夹和承片台采用采用推拉式基准平板、真空吸附的方式，方便快捷，工作效率高。

 

（1）接通电源：接入控制电源后，按下控制 “控制电源”按键开关；

（2）检查仪表指示：接通控制电源后，控制系统复位，检查气动、控制仪表状态是否正常；

（3）接通辅助设备电源：打开设备气动控制系统必需的正压设备（压缩气瓶、压缩机或正压管道等）及负压设备（真空泵或负压管道等）电源。

 

1）供电条件：220V、50Hz(大于10A)；

2）压力空气：大于0.6 Mpa(无油、无水、无灰尘)；

3）真空抽速：大于1 (l/S)；

4）温度条件：22℃5℃；

5）湿度条件：相对湿度小于60%；