PVD (Physical Vapor Deposition) 即物相沉积，分为：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜和真空溅射镀；

离子镀基本原理：在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。

安徽纯源镀膜科技有限公司主要从事真空纳米镀膜设备的设计、研发、加工制造、销售、售后服务和镀膜生产服务。在纯离子镀膜(PIC)、化学气相沉积（CVD）、磁控溅射、多弧离子镀、离子束刻蚀清洗等真空镀膜应用领域都拥有国内外技术。膜层系列有Ta-C、DLC、低温化物膜 (TiN、CrN等)、碳化物膜 (CrC等)和高致密金属/合金膜等。