真空室中1550 X 1800mm(H)

工件架φ1400mm工件架转速10rpm to 30rpm (可变)

光学膜厚控制HOM2- R-VIS350A

波长范围:350nm to 1100nm 光学膜厚监控仪反射式/透射式

水晶式膜厚计XTC/3+6点式水晶传感器

蒸发源电子 2套

离子源17cmRF 离子源

机械泵:排气系统2个扩散泵Polycold(或2 个冷凝泵)

1. 2. 性能:达到压力7.0X10-5Pa以下排气时间20分 (大气压,1.3X10- 3Pa)基板温度最高:350
2. 3. 设备尺寸:约5500mn(W) X 7200mm()X3700mm(H) 3相, 200v, 50/60Hz,
3. 4. 电源约120KVA 水流量180 升/分以上 空气压力0. 5MPa以上
4. 5. 重量约11000kg

2. 性能:达到压力7.0X10-5Pa以下排气时间20分 (大气压,1.3X10- 3Pa)基板温度最高:350

1.产品参数:

真空室中1550 X 1800mm(H)

工件架φ1400mm工件架转速10rpm to 30rpm (可变)

3. 设备尺寸:约5500mn(W) X 7200mm()X3700mm(H) 3相, 200v, 50/60Hz,

1、中空负极等离子喷涂基本原理
在底端真空泵为高真空的情形下，氩气瓶(1-10-2)从负极引进，在负极与辅助阳极中间提升引弧工作电压，使氩气瓶发亮充放电，在中空负极造成低电压等离子充放电，负极温度上升到2300-2400K从冷阴极充放电到热阴极放电，逐渐热电子发送，充放电到平衡状态。进到反映汽体，可做成结合膜。
二、测控技术磁控溅射原理
将真空系统预抽至10-3Pa，随后进到汽体(比如氩气瓶)，标准气压为1-10Pa在这个过程中，向总体目标加上负电压以造成电弧放电。当电子器件在电磁场的积极意义下加快奔向硅片时，它和氩分子相撞，并水解Ar和另一个电子器件；跃迁总体目标原材料，越来越多二次电子电离，持续跃迁总体目标原材料；电磁场根据磁场更改电子的运动方位，限制和增加电子的运动运动轨迹，进而提升价电子工作中气体水解几率。
三、多弧离子镀工作原理
其原理是冷阴极配建电弧光放电，其物理基础是当场发送。当电镀材料传送到负极，真空系统传送到阳极氧化，真空系统提取到高真空时，开启电级驱动器并开启触碰。这时，阴极和阳极中间产生相对稳定的电弧放电，负极表层充斥着迅速摆动的负极点，一些正离子对阴极点跃迁使之变成点蒸发源，多弧离子镀层以好几个电孤蒸发源为基础。
四、电阻器蒸发镀膜机
薄膜材料被放置于挥发船中，放置于真空系统中。当获取到一定的真空泵时，薄膜材料根据电阻器开展加温，使之挥发。当挥发分子的均值可玩性超过蒸发源到底材的线形规格时，原子和分子从蒸发源中逸出，抵达底材产生膜。为了能让薄膜厚度匀称，可以用电机驱动器底材转动，并用薄膜厚度计操纵薄膜厚度，设计出高质量塑料薄膜。
五，E原理
负极钨丝加热发送0.3EV在钨丝阴极和阳极间的静电场影响下，原始机械能的热电子加快并汇聚成束。在磁铁线圈的磁场中，离子束沿ExB电子能量根据负极偏移到10KV，根据阳极氧化电子器件偏移270夹角阳极氧化电子器件偏移270夹角，跃迁膜材使之挥发。
六，PVD镀晶原理
将电镀工艺零件放到低电压光充放电的负极上，引进适度气体，在一定条件下，根据化学变化与直流溅射结合的全过程，在工件表面得到镀层。

产品结构

真空室中1550 X 1800mm(H)

工件架φ1400mm工件架转速10rpm to 30rpm (可变)

光学膜厚控制HOM2- R-VIS350A

波长范围:350nm to 1100nm 光学膜厚监控仪反射式/透射式

水晶式膜厚计XTC/3+6点式水晶传感器

蒸发源电子 2套

离子源17cmRF 离子源

机械泵:排气系统2个扩散泵Polycold(或2 个冷凝泵)

1. 2. 性能:达到压力7.0X10-5Pa以下排气时间20分 (大气压,1.3X10- 3Pa)基板温度最高:350
2. 3. 设备尺寸:约5500mn(W) X 7200mm()X3700mm(H) 3相, 200v, 50/60Hz,
3. 4. 电源约120KVA 水流量180 升/分以上 空气压力0. 5MPa以上
4. 5. 重量约11000kg

 

产品数量有限，先到先得，不包运输，自提，售后服务