采用 真空容器，产品事先放置在容器中，通过磁控溅射工艺对靶材辉光放电，溅射出来的离子沉积在基材表面上。它与直流溅射的区别在于不会造成靶材中毒，有 的溅射量等优点；中频磁控溅射镀膜法采用 真空10-3以下，在密闭高真空容器里面配合高温。利用PVD物理气相沉积。在表面形成致密金属膜层，表面离子分列均匀，结合气体与靶材的化学分子反应，可结合出化合物膜。使之表面涂层硬度 ，各项性能得到很好提升， 能够得到各种颜色的金属膜层。