PICOSUN原子层沉积系统ALD R-300高级版

（PICOSUN? ALD P-300 Advanced）

 

名称：原子层沉积系统   产地：芬兰

 

Picosun简介

Picosun是yi家全球公司，Picosun的总部位于芬兰的Espoo，其生产设施位于芬兰的Masala（Kirkkonummi）。PICOSUN®ALD设备专为高产量和高产量而设计，并且不断发展以提高效率。Picosun适应性强其客户包括  大的电子制造商，小型的创新型挑战者以及全球ling先的大学。 Picosun的组织机构和种类繁多的ALD解决方案都可以满足每个客户的需求。PICOSUN®研发工具具有 的内置可扩展性，可确保将研究结果平稳过渡到大批量工业制造中，而不会出现技术差距。Picosun的热情在于创新。当您想与设备制造商共同创建定制的ALD解决方案，从而引ling行业发展时，Picosun是您的 。

   PICOSUN? R系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术，并在各种各样的衬底上都表现 的均匀性，包括 具挑战性的通孔的、 深宽比和颗粒等样品。我们为液体、气体和固体化学物提供的 级的，易更换的前驱源系统，能够在晶圆、3D样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度 小的薄膜层。在 基本的PICOSUN? R系列配置中可以选择多个独立的，完全分离的源入口匹配多种类型的前驱源。PICOSUN? R系列 的扩展性使ALD工艺可以从研究环境直接过渡到生产环境的PICOSUN? P系列ALD系统。由于研发型与生产型PICOSUN?反应腔室核心设计特点都是相同的,这消除了实验室与制造车间之间的鸿沟。对大学来说,突破创新的技术转化到生产中，就会吸引到企业 。

 

PICOSUN®R-300

Picosun? 300mm生产线上的产品是300mm以下晶圆的自动化、高产量的工业ALD加工设备。包括PICOSUN? P系列Pro和Advanced ALD设备。该工具可以独立工作，也可以集成到PICOPLATFORM?300真空集群系统以达到 的产量和自动化水平。为了节约昂贵的设施空间，所有PICOSUN?的ALD系统有着紧凑、 的设计。集成的专业机柜，装载着前驱体和电子元件，保证了快速简便的维护和 短的停机时间。PICOSUN? P系列工具保证了 大产能以及 节约成本的情况下得到 的ALD工艺质量，并履行严格的现代半导体产业的生产力和安全要求。

工艺咨询和开发，产能提升，维护保养流程和系统及工艺的故障排除，我们客户化定制的PICOSUPPORT?综合解决方案24小时快速响应，随时待命。在购买之前，我们的演示服务保证了设备可以 满足客户 苛刻的产线需求。

 

技术指标

 

衬底尺寸和类型	156 mm x 156 mm硅片50～100片/批次（双面/背对背）
	高达300 mm x 300 mm玻璃基板10～20片/批次（双面/背对背）
	大批量的3D产品（例如：钟表部件，珠宝，硬币，医疗植入部件，机械部件等）
	粉末与颗粒
	Roll-to-roll, 衬底 大宽 300 mm
	多孔，通孔，与高深宽比（HAR）样品
工艺温度	50-500℃
基片传送选件	气动升降（手动装载）
	半自动装载，用线性装载器实现
	全自动转载，用工业机器人实现
前驱体	液态、固态、气态、臭氧源
	前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务
	4根独立源管线， 多加载6个前驱体源
重量	400 + 300 kg
尺寸 (W x H x D)	149 cm x 191 cm x 111 cm
选件	PICOFLOW? 扩散增强器，N2发生器，尾气处理器，定制设计，与工厂软件连接服务。
验收标准	标准设备验收标准为 Al2O3 工艺

 

 

应用领域

客户使用PICOSUN? R系列ALD 设备在150mm和200mm（6“和8”）晶圆上所沉积薄膜厚度均匀性数据。

 

材料	非均匀性(1σ)
AI2O3 (batch)	0.13%
SiO2 (batch)	0.77%
TiO2	0.28%
HfO2	0.47%
ZnO	0.94%
Ta2O5	1.00%
TiN	1.10%
CeO2	1.52%
Pt	3.41%