IQ Aligner®  Automated UV Nanoimprint Lithography System

IQAligner®   自动化紫外线纳米压印光刻系统

 

用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统

 

技术数据

IQ Aligner UV-NIL系统允许使用直径从150 mm至300 mm的压模和晶片进行微成型和纳米压印工艺，非常适合高度平行地制造聚合物微透镜。该系统从从晶圆尺寸的主图章复制的软性图章开始，提供了混合和整体式微透镜成型工艺，可以轻松地将其与工作图章和微透镜材料的各种材料组合相适应。此外，EV Group提供合格的微透镜成型工艺，包括所有相关的材料专业知识。

EV Group专有的卡盘设计可为高产量大面积印刷提供均匀的接触力。配置包括从压印基材上释放 的释放机制。

 

特征

用于光学元件的微成型应用

用于全场纳米压印应用

三个独立控制的Z轴，可在印模和基材之间实现出色的楔形补偿

三个独立控制的Z轴，用于压印抗蚀剂的总厚度变化（TTV）控制

利用柔软的印章进行柔软的UV-NIL工艺

EVG专有的全自动浮雕功能

抵抗分配站集成

粘合对准和紫外线粘合功能

IQ对准器

 

技术数据

晶圆直径（基板尺寸）150至300毫米

解析度≤50 nm（分辨率取决于模板和工艺）

支持流程：柔软的UV-NIL，镜片成型

曝光源： 光源

对准：≤±0.5微米

自动分离：支持的

前处理

涂层：水坑点胶（可选）

迷你环境和气候控制

可选的：

工作印章制作：支持的；