热等静压工艺钼靶材-钼旋转靶材
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“热等静压工艺钼靶材-钼旋转靶材”参数说明
| 形态： | 钼靶材 | 钼含量： | 99.95% |
| 型号： | 多种型号 | 规格： | 多种规格 |
| 商标： | AEM |
“热等静压工艺钼靶材-钼旋转靶材”详细介绍
钼靶材
纯度：99.95%；
钼旋转靶采用热等静压工艺，可生产最大长度4000mm，厚度根据客户要求定制。
钼平面靶采用热等静压工艺，可生产最大长度2500mm，最大宽度400mm，尺寸可根据客户要求加工。
应用：广泛用于导电玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光学玻璃、离子镀膜、物理溅射镀膜和太阳能等行业及乳腺X射线管医疗行业等，适用所有平面镀膜及旋转镀膜系统。
应用领域：薄膜太阳能工业，低辐射玻璃工业，平板显示工业，光学镀膜工业，工具及装饰镀膜工业。
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