PVD真空镀膜:在半导体领域的涂层应用
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产品详情
“PVD真空镀膜:在半导体领域的涂层应用”参数说明
处理方式: | 等离子处理 | 类型: | 真空法 |
型号: | 按需定制 | 规格: | 按需定制 |
包装: | 按需定制 | 膜层厚度: | 2-3μm |
镀膜温度: | <150℃ | 产量: | 9999999 |
“PVD真空镀膜:在半导体领域的涂层应用”详细介绍
安徽纯源镀膜科技有限公司由新加坡归国创业团队于2014年创立的高科技公司。纯源始终专注于为客户提供一站式涂层解决方案。公司经过多年的研发积累,将多种真空镀膜技术有机结合,形成一系列的镀膜技术及工艺配方,掌握了多种优异的涂层技术。主要从事于真空纳米、微米级中镀膜设备的设计、研发和制造;同时,提供多种纳米、微米级膜层的工艺开发和多系列复合膜层的镀膜服务。
半导体领域:晶圆、封装模具等产品。可定制化半导体封装镀膜设备,超真空系统等。 公司目前拥有多项核心技术,制造的纯离子镀膜设备(Pure Ion Coating,简称PIC)能够制造出性能的金属膜、合金膜、金属化合物膜和类金刚石薄膜;
另一项的核心技术产品NDT(New Diamond Technology)能够制成性能稳定的类金刚石薄膜。
欢迎新老客户咨询。
安徽省合肥市蜀山区大别山路1599号
注明:以上数据来源于安徽纯源镀膜科技有限公司- 材料实验室-检测结果
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