TAC(Tetrahedral Amphous Carbon,四面体非晶碳)涂层，是一种无DLC（类金刚石）涂层，其膜层可以达到85%以上的（金刚石）SP3键含量，具有的硬度(>75 GPa)、极低的摩擦系数(< 0.1)、高弹性模量、宽透光范围、良好的化学惰性等优点，其物理化学性质和金刚石极其类似。

应用范围：在微电子工业、半导体器件、高精密模具、数据存储、航空、等领域具有的优势。

 

目前现有的成熟技术制备的Ta-C涂层硬度基本稳定在HV2500-3000，一般而言，在涂层结合力达标的情况下，涂层的硬度和耐磨性能成正比，对于一些特殊情况下的使用，现有成熟技术制备的Ta-C 涂层很难达到HV4500-5500的超硬要求。

而超硬类金刚石涂层工艺硬度可控制在4500~8000HV，大幅增加膜层硬度。

超硬类金刚石涂层：

TAC(Tetrahedral Amphous Carbon,四面体非晶碳)涂层，是一种无DLC（类金刚石）涂层，其膜层可以达到85%以上的（金刚石）SP3键含量，具有高的硬度(>75 GPa)、极低的摩擦系数(< 0.1)、高弹性模量、宽透光范围、良好的化学惰性等优点，其物理化学性质和金刚石极其类似。

 

安徽纯源镀膜科技有限公司（简称纯源镀膜），是由新加坡归国创业团队于2014年创立的高科技公司，主要从事真空纳米镀膜设备的设计、研发、加工制造、销售、售后服务和镀膜生产服务。

公司目前拥有设计、研发、工艺、市场和生产等各方面的专业人才，在纯离子镀膜(Pure Ion Coating，简称PIC)、化学气相沉积（CVD）、磁控溅射、多弧离子镀、离子束刻蚀清洗等真空镀膜应用领域都拥有国内外技术。

膜层系列有Ta-C、DLC、低温化物膜 (TiN、CrN等)、碳化物膜 (CrC等)和高致密金属/合金膜等。