成都真空设备厂家 surpass大口径等离子刻蚀 半导体刻蚀 离子束刻蚀 反应离子刻蚀 可定制
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产品详情
“成都真空设备厂家 surpass大口径等离子刻蚀 半导体刻蚀 离子束刻蚀 反应离子刻蚀 可定制”参数说明
| 材质： | 不锈钢 | 驱动方式： | 其它 |
| 原理： | 等离子刻蚀 | 产量： | 10 |
“成都真空设备厂家 surpass大口径等离子刻蚀 半导体刻蚀 离子束刻蚀 反应离子刻蚀 可定制”详细介绍
●本设备主要用于半导体刻蚀，能够兼容离子束刻蚀和反应离子刻蚀功能，使用气态化学刻蚀剂与材料产生反应来进行刻蚀，并形成可从衬底上移除的挥发性副产品，通过真空系统排出，特别适合刻蚀熔融石英、硅、光刻胶、聚酷亚胺( PI) 薄膜、金属等材料。
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