铜蚀刻液配方分析 探擎科技基本介绍

铜蚀刻液配方分析 探擎科技 

铜蚀刻液配方分析 探擎科技性能特点

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铜蚀刻液配方分析 探擎科技 铜蚀刻液分析

 

铜蚀刻液是一种没有任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂的抛光液有比较好的去污，防锈化，清洗缓冲和增光功能，并且能使金属制件制品*过原有的光泽。本产品平稳、无毒，对生态环境无污染等作用。

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     一、探擎(上海)技术服务有限公司可针对各生产厂家为铜蚀刻液给予如下服务：

     1、铜蚀刻液成分分析化验：应用各类仪器对物质做剖析化验，分析物质基本配方体系成分。

     2、铜蚀刻液含量测量：对物质成分配比做定性分析剖析化验，分析成分含量比例比例添加剂名称以及配方含量。

     3、铜蚀刻液性能改进：剖析化验化学助剂配方体系成分再重新设计，提高化学助剂全面经验参数。

     4、铜蚀刻液问题分析化验：有因配方体系成分致使生产工艺过程中碰到的问题，单单提供相应解决问题技术。

     5、未知物分析化验分析：提供未知物、未知杂质、衍生物等未知物配方含量分析化验分析单单提供服务。

     6、失效分析化验分析：研发材料化工试剂含量配比、添加剂名称等技术指标，确立材料失效缘由。

     二、厂家针对铜蚀刻液做分析化验及定性分析，能很好的的解决产品生产难题，详情可以登录探擎(上海)技术服务有限公司有关网站做咨询，与此同时，探擎(上海)技术服务有限公司作为化工类企业分析测试的公司，积淀了不少抛光剂的有关技术经验：

     1、抛光液酸碱度：

      抛光液的酸碱度是抛光液的PH值，当抛光液的PH值为9.6时，抛光液的机械作用远远大于化学作用，去除速率比较大，致使抛光后抛光片表层产生高损伤层，粗糙度比较大；当抛光液的pH值加大为10.84～11.34时，机械作用和化学作用实现一种对等状态时，此时化学作用的均匀性好，让表层张力小，性能处理的一致性好，可得到较好的表层抛光性能；当pH值大于11.67时，SiO2水溶胶在强碱的用途下，生成较易溶于水的硅酸氨，让硅溶胶中的SiO2颗粒不能达到磨削用途，变成透明的液态，此时机械作用基本失效，抛光以化学作用为主，表层蚀坑增多，让表层粗糙度重新提升。

     2、抛光液常见产品：

    （1）、BD-H001型低碳钢常温化学抛光液：

      BD-H001型低碳钢常温化学抛光液对低碳钢工件拥有比较好的抛光性能，性能能实现镜面光亮，外观可以与装饰铬媲美。应用本产品抛光，可以提高**，还可缩短镀镍时间。    

    （2）、BD-H201型铝件化学抛光液：

       BD-H201型铝件化学抛光液是为提高铝制品表层光洁度而设计的一种化工抛光液，铝制品通过本产品抛光后，可以实现镜面亮度，可以作为铝制品成品装饰用，也可以作为铝制品表层处理工序中的中间工序应用。本产品为淡蓝色透明状液体。

    （3）、BD-H302型不锈钢化学抛光液：

       BD-H302型不锈钢化学抛光液不受物件图形、体积限制，可改变不锈钢制品机械损伤层以及应力层，提高机械强度，成效高，表层精饰效果好。

      探擎科技有限公司上海总部：上海市浦东新区自贸区华京路418号杉中科技创业园1楼B-105室。

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