刻蚀机 反应离子刻蚀 那诺-马斯特
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产品详情
“刻蚀机 反应离子刻蚀 那诺-马斯特”参数说明
是否有现货: | 否 | 品牌: | 那诺-马斯特/nano-master |
适用范围: | 医疗卫生,化工,生物产业,电子,制药 | 分类: | 实验室仪器 |
类目: | 刻蚀机 | 型号: | Nre-4000(m) |
规格: | 台 | 商标: | Nano-master |
包装: | 原厂 |
“刻蚀机 反应离子刻蚀 那诺-马斯特”详细介绍
NRE-4000(M)反应离子刻蚀概述:
NRE-4000是一款独立式RIE系统,配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2"的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持大到12”的晶圆片。腔体为超净设计,并且根据配套的真空泵可以达到10-6 Torr 或小的极限真空。该系统系统可以在20mTorr到8Torr之间的真空下工作。真空泵组包含一个节流阀,一个250l/s的涡轮分子泵,滤网过滤器,以及一个10cfm的机械泵(带Formblin泵油).RF射频功率通过600W,13.56MHz的电源和自动调谐器提供。系统将持续监控直流自偏压,该自偏压可以高达-500V.这对于各向异性的刻蚀至关重要。
该系统是基于PC控制的全自动系统.系统真空压力及DC直流偏压将以图形格式实时显示,流量及功率则以数字形式实时显示.系统提供密码保护的四级访问功能:操作员级、工程师级、工艺人员级,以及维护人员级.允许半自动模式(工程师模式)、写程序模式(工艺模式), 和全自动执行程序模式(操作模式)运行系统。基于全自动的控制,该系统具有高度的可重复性。
NRE-4000(M)反应离子刻蚀产品特点:
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铝质腔体或不锈钢腔体
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不锈钢立柜
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能够刻蚀硅的化合物(~400Å /min)以及金属
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典型的硅刻蚀速率,400 Å/min
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高达12”的阳极氧化铝RF样品台
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水冷及加热的RF样品台
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大自偏压
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淋浴头气流分布
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极限真空5x10-7Torr,20分钟内可以达到10-6Torr级别
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涡轮分子泵
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至多支持8个MFC
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无绕曲气体管路
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自动下游压力控制
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双刻蚀能力支持:RIE以及PE刻蚀(可选)
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终点监测
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气动升降顶盖
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手动上下载片
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基于LabView软件的PC计算机全自动控制
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菜单驱动,4级密码访问保护
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完全的联锁
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可选ICP离子源以及低温冷却样品台,用于深硅刻蚀
NRE-4000(M) Features:
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Aluminum or Stainless Steel Chamber
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Stainless Steel Cabinet
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Capable of etching Si compounds (~400 Å /min)and metals
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Typical Si etch rate, 400 Å/min
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Up to 12“ Anodized RF Platen
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Water Cooled and Heated RF Platen
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Large Self Bias
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Shower Head gas distribution
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Approximay 10-6 Torr < 20 minutes, ~ 5 x10-7 Torr base pressure
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Turbomolecular Pump
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Up to eight MFCs
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No flexing of gas lines
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Down Stream Pressure Control
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Dual Etch capability: RIE and Plasma Etch(Option)
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End Point Detection
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Pneumatically Lifted Top
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Manual loading/unloading
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PC Controlled with LabVIEW
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Recipe Driven, Password Protected
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Fully Safety Interlocked
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Optional ICP source and cryogenic cooling of the platen for deep Si etch
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