钛靶 真空镀膜用钛靶
- 买家还在看 -
-
面议 -
面议 -
面议
扫码发送给微信好友 
产品详情
“钛靶 真空镀膜用钛靶”参数说明
| 是否有现货： | 是 | 类型： | 有色轻金属 |
| 型号： | TA0 TA1 | 规格： | 100*40 |
| 商标： | 锐钛宏业 | 包装： | 木箱包装 |
| 高纯材料： | 99.9% | 尺寸： | 100*40 |
| 产量： | 10000 |
“钛靶 真空镀膜用钛靶”详细介绍
靶材的主要性能要求:纯度纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中，对靶材的纯度要求也不尽相同。例如，随着微电子行业的迅速发展，硅片尺寸由6”, 8“发展到12”, 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求，而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。杂质含量靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如，半导体工业用的纯铝及铝合金靶材，对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。密度为了减少靶材固体中的气孔，提高溅射薄膜的性能，通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率，还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和强度使靶材能 地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。晶粒尺寸及晶粒尺寸分布通常靶材为多晶结构，晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材，晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快；而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布 均匀。
查看更多产品> 向您推荐
-
面议
-
面议
-
面议
内容声明：您在中国制造网采购商品属于商业贸易行为。以上所展示的信息由卖家自行提供，内容的真实性、准确性和合法性由发布卖家负责，请意识到互联网交易中的风险是客观存在的。
价格说明：该商品的参考价格，并非原价，该价格可能随着您购买数量不同或所选规格不同而发生变化；由于中国制造网不提供线上交易，最终 格，请咨询卖家，以实际 格为准。
