上海思峻机械设备有限公司
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上海思峻机械设备有限公司是乳化机,均质机,分散机的优良生产制造厂家,竭诚为您提供全新的GRS2000纳米分散乳化机,纳米二氧化钛研磨分散机,GRS2000超高速管线式乳化机等系列产品。

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药物研磨均质机

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药物研磨均质机

**量(件) 价格(元/件)
1 91800.00
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产      地 上海市
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“药物研磨均质机”参数说明

是否有现货: 应用领域: 医药
物料类型: 固-液 适用物料: 药品
动力类型: 电动 品牌: 其他品牌
每次处理量范围: 其它 适用场所: 工业生产用
产品类型: 全新 功率: 4kw
外形尺寸(长*宽*高): 450*350*750 整机重量: 50kg
型号: Grs2000 规格: Grs2000
商标: Sgn-思峻 包装: 木箱

“药物研磨均质机”详细介绍

一、产品概述

药物研磨均质机,****研磨均质机,****研磨均质机、****、研磨均质机,波尼松研磨均质机,医药研磨均质机,德国进口研磨均质机,SGN高速研磨均质机

二、产品简介

SGN研磨均质机设计独特,能够延长易损件的使用时间,因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用,也可以单独使用,且粉碎粒度范围广,成品粒径可以进行调整。药物研磨均质机机由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、均质和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

甾体类药物在化药工业中地位突出,是仅次于抗生素的第二大类药物。甾体类药物对机体起着重要的调节作用,包括改善蛋白质代谢、恢复和增强体力、利尿降压等;并可治疗风湿性关节炎、湿疹等皮肤病及前列腺、爱迪森式等内分泌疾病;亦可用于安胎及手术麻醉等领域。目前全球生产的甾体类药物已超过300种,其中*主要的是****药物。2016年全球****药物销售额超过1000亿美金,是仅次于抗生素的第二大类化学药。

传统的合成路线为:黄姜→皂素→双烯→甾体原料药→甾体制剂,上世纪末甾体类药物发展较快,黄姜资源被大量消耗,供应短缺限制了行业发展。近年来以禾木科植物为原料的合成工艺出现,因其环保成本低、原料供应稳定等特点,逐渐替代传统工艺,具体合成路线为:禾木科植物→植物甾醇→****/9羟基****/雄二烯二酮等→甾体原料药→甾体制剂。  

其中采用生物技术路线的行业内企业,在生产过程中,往往会面临菌种转化率低、分离和纯化收率低、产品质量不高等问题,以本公司为代表的少数企业率先掌握了高转化率的发酵及提取技术,具备了成熟的规模化生产能力,保证了较低的生产成本及较高的产品质量,具有显著的先发和竞争优势。 
具体合成路线为:禾木科植物→植物甾醇→****/9羟基****/雄二烯二酮等→甾体原料药→甾体制剂。  

三、产品原理

GMD2000系列研磨分散机的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

第yi级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

 

四、GMD2000系列研磨分散机设备选型表
 

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

GMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

GMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

GMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

GMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

GMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

GMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%