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紫外线光清洗灯,UV清洗灯

图片审核中 紫外线光清洗灯,UV清洗灯
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紫外线光清洗灯,UV清洗灯

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起批量 10
供货总量 1000000只
产地 上海市
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“紫外线光清洗灯,UV清洗灯”参数说明

型号: 非标定制 规格: 185nm,254nm,172nm
商标: Tobey 包装: 纸箱
产量: 1000000

“紫外线光清洗灯,UV清洗灯”详细介绍

紫外线光清洗灯,UV清洗灯基本介绍

光清洗制程:

使用UV是於1980年代初将光洗净法实用化,一直到90年代以改质为目的被广泛的应用。

UV而产生之氧化反应,其效果依被处理物之种类而定分为洗净和改质两大项

而光处理法的基本原理UV是拥有杀菌能量的一种电磁波也是属於光的一种,其波长领域极广,

100mm ~400mm为紫外线放射范围,属於UV-C范围,因其波长短UV能量高,其值和很多有机物之化学结合之能量值相近,易起反应生成各种作用及效果,其中具代表的作用就是洗净.

改质对塑料玻璃陶瓷或是耐蚀性佳之金属而言有显著的效果

紫外线光清洗灯,UV清洗灯性能特点

二、紫外光清洗的特点:

 

1、是一种无接触方式,可在空气中进行并且在清洗后不必进行干燥。

 

2、可 清除物体表面的碳和有机污染物。

 

3、无溶剂挥发及废弃溶剂的处理问题。

 

4、保证产品的高可靠性和高成品率。

 

5、产品表面清洗处理的均匀度一致。

 

6、由於光清洗是通过光敏、氧化反应去除物体表面的碳和有机化合物,所以容易发生氧化的表面不宜用光清洗方法,只适对表面污垢清洗、不适对污垢量较多,无机类污垢清洗。

 

紫外线光清洗灯,UV清洗灯技术参数

型 号

(U,H)

管 径

(D)

管 压

(V)

电 流

(mA)

功 率

(W)

安装长度

(mm)

弧 长

(mm)

备注

SVR40U

17.5

95±5

450

40

270

200

 

SVR70U

17.5

100±5

800

70

370

300

 

SVR90U

17.5

130±5

800

90

530

455

 

SVR110U

17.5

130±5

900

110

640

565

 

SVR160U

17.5

150±5

1000-1200

160

780

705

 

SVR200U

17.5

130±5

1200-1500

200

820

755

 

紫外线光清洗灯,UV清洗灯使用说明

主要在液晶显示器件、半导体矽晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等生产过程中采用光清洗方法为合适。

 主要材料:ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、矽晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理。

 可以去除污垢:有机性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等。

 UV光源在LCD工艺中又具有UV改质(紫外光表面质变)的特点,目前在液晶显示器STN的生产过程中,主要是用在膜处理技术上,对於改善膜与膜之间的密接是非常有效的,如ITO膜与感光胶膜层, 涂层与PI涂层等等。另在研究部门又可用来UV改性塑料材料产品,用於纳米技术研究,产品经此UV光照射发生化学反应,使产品表面性质改变。 STN-LCD、彩色滤光片及OLED的制作过程中,有些制程设备相当雷同,差别在於制造工艺要求的不同。随著线路的精细化及产品的彩色比,LCD产业对制造工艺的要求也不断地提升,而有"工欲善其事,必先利其器"之需求,因此只有设备能力不断地精进,才能提高生产的质量与效率。

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