紫外线光清洗灯、UV光清洗灯、紫外线清洗灯
- 买家还在看 -
-
面议 -
面议 -
面议 -
面议 -
面议 -
面议 -
面议 -
面议
<
>
扫码发送给微信好友 
- 产品详情
“紫外线光清洗灯、UV光清洗灯、紫外线清洗灯”参数说明
| 型号： | UV/O3 | 规格： | 40W-200W |
| 商标： | TOBEY | 包装： | 纸箱 |
| 产量： | 5000 |
“紫外线光清洗灯、UV光清洗灯、紫外线清洗灯”详细介绍
光清洗灯管/紫外线清洗灯/UV清洗灯/光清洗灯/紫外线低压清洗灯/
光清洗技术是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除黏附在材料表面上的有机物质，经过光清洗后的材料表面可以达到“原子清洁度”。 详尽的讲：UV光源发射波长为185nm和254nm的光波，具有很高的能量,当这些光子作用到被清洗物体表面时,由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外光具有较强的吸收能力, 并在吸收185nm波长的紫外光的能量后分解成离子、游离态原子、受激分子和中子，这就是所谓光敏作用。空气中的氧气分子在吸收了185nm波长的紫外光后也会产生臭氧和原子氧。臭氧对254nm波长的紫外光 同样具有强烈的吸收作用,臭氧又分解为原子氧和氧气。其中原子氧是极活泼的,在它作用下,物体表面上的碳和碳氢化合物的分解物可化合成可挥发的气体：二氧化碳和水蒸气等逸出表面，从而 清除了黏附在物体表面上的碳和有机污染物。清洗时，使基板治湿性向上。玻璃基板是以滚轮方式输送，上方装置低压水银灯产生紫外线照射。玻璃基板所累积紫外线能量愈多，其表面水接触愈小，成反比关系。一般STN-LCD制作过程中，需求的玻璃基板累积紫外线能量为300nj/cm2(253.7nm)以上。而彩色STN-LCD及彩色滤光片制作过程中，要求的玻璃基板累积紫外线能量为600nj/cm2(253.7nm)。在TFT-LCD制作过程中，除了低压水银灯产生臭氧清洗玻璃外，目前制程的主流是，使用Excimer Lamp,其172nm波长紫外线的高反应性质对玻璃的清洗U,H形效率 。
光清洗技术是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除黏附在材料表面上的有机物质，经过光清洗后的材料表面可以达到“原子清洁度”。 详尽的讲：UV光源发射波长为185nm和254nm的光波，具有很高的能量,当这些光子作用到被清洗物体表面时,由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外光具有较强的吸收能力, 并在吸收185nm波长的紫外光的能量后分解成离子、游离态原子、受激分子和中子，这就是所谓光敏作用。空气中的氧气分子在吸收了185nm波长的紫外光后也会产生臭氧和原子氧。臭氧对254nm波长的紫外光 同样具有强烈的吸收作用,臭氧又分解为原子氧和氧气。其中原子氧是极活泼的,在它作用下,物体表面上的碳和碳氢化合物的分解物可化合成可挥发的气体：二氧化碳和水蒸气等逸出表面，从而 清除了黏附在物体表面上的碳和有机污染物。清洗时，使基板治湿性向上。玻璃基板是以滚轮方式输送，上方装置低压水银灯产生紫外线照射。玻璃基板所累积紫外线能量愈多，其表面水接触愈小，成反比关系。一般STN-LCD制作过程中，需求的玻璃基板累积紫外线能量为300nj/cm2(253.7nm)以上。而彩色STN-LCD及彩色滤光片制作过程中，要求的玻璃基板累积紫外线能量为600nj/cm2(253.7nm)。在TFT-LCD制作过程中，除了低压水银灯产生臭氧清洗玻璃外，目前制程的主流是，使用Excimer Lamp,其172nm波长紫外线的高反应性质对玻璃的清洗U,H形效率 。
向您推荐
内容声明：您在中国制造网采购商品属于商业贸易行为。以上所展示的信息由卖家自行提供，内容的真实性、准确性和合法性由发布卖家负责，请意识到互联网交易中的风险是客观存在的。
价格说明：该商品的参考价格，并非原价，该价格可能随着您购买数量不同或所选规格不同而发生变化；由于中国制造网不提供线上交易，最终 格，请咨询卖家，以实际 格为准。
