TiO2和石墨烯两个粉体的复合，需要借助液体介质来进行两者的混合和分散，一般需要将二氧化钛和石墨烯分散到液体中，形成悬浮液，需要对体系进行研磨分散，使悬浮液(或乳化液)体系中的分散物微粒化、均匀化的处理过程，这种处理同时起降低分散物尺度和提高分散物分布均匀性的作用，使得光触媒环保涂料产品稳定。结合多家客户案例， GMSD2000系列高速研磨分散机，两级结构，先研磨后分散，转速0-18000rpm，研磨分散效果好，粒径小，均匀度高。

1、TiO2石墨烯研磨分散设备采用上海SGN技术，*创意，融化理念。将SGN高剪切胶体磨进行进一步的改良，在原来GM2000系列的基础上，将单一的胶体磨磨头模块，改良成两级模块，加入了一级分散盘（均质盘、乳化盘）。从而形成改良型的胶体磨，先研磨后分散（均质、乳化），将物料的处理一步到底的完成，我们将这种改良的胶体磨也称为“研磨分散机”。

2、TiO2石墨烯复合浆料纳米分散机采用德国博格曼双端面机械密封，在保证冷却水的前提下，可24小时连续运行。而普通分散机很难做到连续长时间的运行，并且普通分散机不能承受高转速的运行。通过梳齿状定子切割破碎，缝隙疏密决定细度大小，高线速度的吸料式叶轮提供很强的切割力。

3、GMSD2000系列TiO2石墨烯复合浆料研磨分散机的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。一级由具有精细度递升的三层锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。

TiO2石墨烯复合浆料研磨分散机选型表

	标准流量（H2O）	输出转速	标准线速度	马达功率	进出口尺寸
型号	l/h	rpm	m/s	kW
GMSD 2000/4	300-1,000	14000	44	2.2	DN25/DN15
GMSD 2000/5	1,000-1.500	10,500	44	7.5	DN40 /DN 32
GMSD 2000/10	3,000	7,300	44	15	DN50 / DN50
GMSD 2000/20	8,000	4,900	44	37	DN80 /DN 65
GMSD 2000/30	20,000	2,850	44	75	DN150 /DN 125
GMSD 2000/50	40,000	2,000	44	160	DN200 /DN 150