石墨乳真空高剪切乳化机基本介绍

三级高剪切分散机器，主要用于微乳液及超细悬乳液的生产。由于工作腔体内三组分散头（定子+转子）同时工作，乳液经过高剪切后，液滴细腻，粒径分布窄，因而生成的混合液稳定性好。三组分散头均易于更换，适合不同工艺应用。该系列中不同型号的机器都有相同的线速度和剪切率，非常易于扩大规模化生产。也符合CIP/SIP清洁标准，适合食品及医药生产。

高的转速和剪切率对于获得超细为悬浮乳液是重要的。根据一些行业特殊要求，其剪切速率可以超过18000rpm，转子速度可以达到51m/s。在该速度范围内，由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力强，乳液的粒径分布窄。

石墨乳真空高剪切乳化机性能特点

1、由于石墨的特性，石墨分散到水介质当中，容易形成团聚。SID研磨式乳化机可以很好的解决这一问题，“胶体磨+分散机”的结构，.研磨模块可以将团聚体研磨打开，第二级分散模块再瞬间对物料进行充分的分散，一步到位，效果好，效率高。

2、石墨是超细粉体，所以需要强大的作用对其进行分散，传统分散设备转速一般不足3000rpm，难以分散。而研磨乳化机转速高达18000rpm，剪切速率高，可以充分的将石墨分散到液体介质当中。

3、石墨研磨分散设备，与物料接触部分 都带有夹套，可通加热介质，保证处理石墨乳，物料的温度，保证清漆的流动性。

石墨乳真空高剪切乳化机技术参数

石墨乳的生产是将石墨粉体分散到水中，加入分散剂，通常研磨分散设备进行处理，形成胶体或乳状状态。生产工艺中除分散剂的选择外，分散设备的选择也至关重要，因为一般的分散设备难以将石墨粉体均匀的分散到水中，如：搅拌机、高速分散机、低速胶体磨等。无法解决物料的团聚现象以及分散的不够均匀，结合我司相关客户案例， XMD2000系列研磨式纳米分散机，对于石墨进行分散，保证效果，一般粒径可细化至1μm，分散均匀高。另外XMD2000系列纳米分散机在石墨烯的分散中也具有巨大的优势。 

以下为型号表供参考：

型号	标准流量 L/H	输出转速 rpm	标准线速度 m/s	马达功率 KW	进口尺寸	出口尺寸
XRS2000/4	300-1000	18000	44	2.2	DN25	DN15
XRS2000/5	1000-1500	10500	44	7.5	DN40	DN32
XRS2000/10	3000	7300	44	15	DN50	DN50
XRS2000/20	8000	4900	44	37	DN80	DN65
XRS2000/30	20000	2850	44	55	DN150	DN125
XRS2000/50	40000	2000	44	160	DN200	DN150

石墨乳真空高剪切乳化机

石墨乳真空高剪切乳化机使用说明

 

石墨乳真空高剪切乳化机采购须知