TiB2二硼化钛

二硼化钛靶材（Titanium Boride, TiB2）作为一种高性能的磁控溅射靶材材料，在现代材料科学与技术领域扮演着重要角色。其物理和化学性质，以及在磁控溅射过程中的表现，使得二硼化钛靶材在多个高科技领域具有广泛的应用前景。以下是对二硼化钛靶材的详细介绍，包括其基本特性、物理性能以及行业应用优势。我司专注研发与生产，铸就行业精品。公司生产硼化物靶材材料如下：

BORIDES 硼化物
Aluminum Boride(AlB2)	Rare Earth Borides
Chromium Boride (CrB)	Tantalum Boride (TaB2)
Hafnium Boride (HfB2)	Titanium Boride (TiB2)
Lanthanum Boride (LaB6)	Tungsten Boride (W2B)
Molybdenum Boride (MoB)	Vanadium Boride (VB2)
Niobium Boride (NbB)	Zirconium Boride (ZrB2)

基本介绍

二硼化钛（TiB2）是一种灰色或灰黑色的粉末状材料，具有六方硼化铝（AlB2）的晶体结构。它是硼和钛形成的稳定的化合物之一，化学式为TiB2，分子量约为69.49（也有资料给出稍有不同的数值，如73.52，这可能是由于计算方法和精度的不同）。二硼化钛靶材具有高熔点、高硬度、良好的耐磨性和耐腐蚀性，这些特性使其在磁控溅射过程中表现出色，能够制备出高质量的薄膜。

物理性能

1、纯度：
二硼化钛靶材的纯度对其性能至关重要。高纯度的二硼化钛靶材（通常要求99.9%以上）能够确保溅射薄膜的纯净度和性能稳定性。低杂质含量有助于减少溅射过程中的污染，提高薄膜的均匀性和一致性。高纯度的二硼化钛靶材在制备高性能、高可靠性的薄膜器件方面具有显著优势。

2、密度：
二硼化钛靶材的密度约为4.52g/cm3（也有资料给出稍有不同的数值，如4.50g/cm3，这同样可能是由于测量方法和条件的不同）。这一密度特性使得靶材在溅射过程中能够保持良好的机械稳定性和溅射效率。高密度的靶材可以提供高的沉积效率和均匀的薄膜，有助于提升最终产品的性能。

3、熔点：
二硼化钛靶材的熔点 ，通常在2900℃至3225℃之间。这一特性使得二硼化钛靶材在高温溅射环境中能够保持稳定，不易熔化或变形。因此，在制备需要高温稳定性的薄膜时，二硼化钛靶材具有显著优势。

4、化学成份：
二硼化钛靶材的主要化学成份是钛（Ti）和硼（B），以TiB2的形式存在。其化学性质相对稳定，但在某些条件下可能与酸或碱发生反应。因此，在制备和使用过程中需要严格控制环境条件，以避免靶材的化学变化影响溅射薄膜的性能。

行业应用优势

1、导电陶瓷材料：
二硼化钛靶材具有优异的导电性能，是制备导电陶瓷材料的重要原料之一。这些导电陶瓷材料在电子封装、微电子器件等领域中具有广泛应用，如真空镀膜导电蒸发舟的主要原料就是二硼化钛。

2、陶瓷切削刀具及模具：
由于二硼化钛具有高硬度和良好的耐磨性，因此它是制造精加工刀具、拉丝模、挤压模、喷砂嘴等陶瓷切削刀具及模具的理想材料。这些刀具和模具在机械加工、金属切割等领域中具有重要作用。

3、复合陶瓷材料：
二硼化钛可以作为多元复合材料的重要组元，与TiC、TiN、SiC等材料组成复合材料，制作各种耐高温部件及功能部件。这些复合材料在高温环境、恶劣工况下仍能保持良好的性能，因此在航空 、 事等领域中具有广泛应用。

4、铝电解槽阴极涂层材料：
二硼化钛与金属铝液具有良好的润湿性，因此可以用作铝电解槽阴极涂层材料。这种涂层材料能够降低铝电解槽的耗电量，延长电解槽的使用寿命，从而提高铝电解的生产效率和经济效益。

5、其他领域：
此外，二硼化钛靶材还可以用于制作PTC发热陶瓷材料和柔性PTC材料，具有 、省电、可靠、易加工成型等特点。同时，它也是Al、Fe、Cu等金属材料很好的强化剂，能够显著提高这些金属材料的强度和韧性。

综上所述，二硼化钛靶材以其 的物理性能和广泛的应用前景，在现代材料科学与技术领域展现出了巨大的潜力和价值。随着科技的不断进步和应用领域的不断拓展，二硼化钛靶材的性能将进一步提升，其应用也将广泛和深入。

 

碳化钛TiC（Titanium Carbide）

碳化钛（Titanium Carbide，简称TiC）靶材作为一种高性能的磁控溅射靶材材料，在材料科学和工程领域展现出了广泛的应用前景和 的优势。以下是对碳化钛靶材的基本介绍、物理性能以及行业应用优势的详细阐述。我司专注技术研发与生产，铸就行业精品。公司生产碳化物靶材材料如下：

CARBIDES 碳化物
Aluminum Carbide (Al4C3)	Tantalum Carbide (TaC)
Boron Carbide (B4C)	Titanium Carbide (TiC)
Chromium Carbide (Cr3C2)	Tungsten-Cobalt Carbide (WC-Co)
Hafnium Carbide (HfC)	Tungsten Carbide (WC)
Molybdenum Carbide (Mo2C)	Vanadium Carbide (VC)
Niobium Carbide (NbC)	Zirconium Carbide (ZrC)

基本介绍

碳化钛靶材是一种由钛和碳元素组成的化合物，其化学式为TiC，分子量为59.89。这种材料通常以灰色金属粉末或块状形式存在，具有立方晶系结构。碳化钛靶材采用常压烧结、气氛烧结、热等静压烧结等工艺制备而成，通过严格控制原料的纯度、成分及成型坯料的设计尺寸，坯料经过精密机械加工后成为靶材。此外，碳化钛靶材还可以根据客户的要求定制加工特殊掺杂比例的靶材。

物理性能

1、纯度：碳化钛靶材的纯度通常可达99.9%以上，高纯度靶材能够确保镀膜的质量和性能。

2、密度：碳化钛的密度为4.93 g/cm3（在25℃下测量），这一密度值使得碳化钛靶材在磁控溅射过程中具有良好的稳定性和均匀性。

3、熔点：碳化钛的熔点高达3140℃，这一高熔点特性使得碳化钛靶材在高温环境下仍能保持其物理和化学性质的稳定性。

4、硬度：碳化钛的硬度 ，仅次于金刚石，这使得碳化钛靶材成为理想的耐磨材料。

5、化学成份：碳化钛由钛和碳元素组成，其中钛和碳通过离子键、共价键和金属键混合在同一晶体结构中，这种特殊的键型结构赋予了碳化钛许多 的性能。

行业应用优势

1、高性能镀膜：碳化钛靶材在磁控溅射镀膜过程中能够形成高质量、高硬度的镀膜层。这种镀膜层具有优异的耐磨性、耐腐蚀性和高导电性，广泛应用于刀具、切削工具、轴承等高强度应用领域。

2、高温稳定性：碳化钛靶材的高温稳定性使其在高温热障涂层、高温陶瓷和耐火材料等领域具有广泛的应用。这些材料能够在高温环境下保持其物理和化学性质的稳定性，从而提高设备的可靠性和使用寿命。

3、化学稳定性：碳化钛靶材具有良好的化学稳定性，能够抵抗许多常见的化学腐蚀，包括酸、碱以及一些有机溶剂。因此，碳化钛靶材可用于制备耐腐蚀涂料、防腐蚀材料和化学催化剂等领域。

4、定制服务：碳化钛靶材的定制服务使得客户可以根据具体需求调整靶材的纯度、掺杂比例和规格。这种灵活性使得碳化钛靶材能够满足不同应用领域对材料性能的特殊要求。

5、广泛的应用领域：除了上述应用领域外，碳化钛靶材还广泛应用于航空 、电子、光学涂层、聚变堆中的抗 涂层以及掘进机截齿涂层等领域。在这些领域中，碳化钛靶材以其优异的性能为设备的性能提升和可靠性提供了有力保障。

综上所述，碳化钛TiC靶材作为一种高性能的磁控溅射靶材材料，在物理性能和行业应用方面均表现出 的优势。随着科技的不断发展和进步，碳化钛靶材的应用领域将不断拓展和深化，为材料科学和工程领域的发展做出 的贡献。