苏州中之纳半导体科技有限公司

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经营模式: 生产制造

所在地区: 江苏省  苏州市

认证信息: 身份认证

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苏州中之纳半导体科技有限公司是金属磁控溅射镀膜靶材,合金靶材,陶瓷旋转靶材的 生产制造厂家,竭诚为您提供全新的Zr 锆靶材 磁控溅射 蒸发颗粒 镀膜靶材,氧化锡锌靶材ZnSnO1 科研实验 溅射镀膜,氧化锌靶材ZnO 科研实验材料 磁控溅射靶等系列产品。

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高 f铪靶材 磁控溅射 PVD真空镀膜靶材 颗粒

图片审核中 高  f铪靶材 磁控溅射 PVD真空镀膜靶材 颗粒
高  f铪靶材 磁控溅射 PVD真空镀膜靶材 颗粒 高  f铪靶材 磁控溅射 PVD真空镀膜靶材 颗粒 高  f铪靶材 磁控溅射 PVD真空镀膜靶材 颗粒
高  f铪靶材 磁控溅射 PVD真空镀膜靶材 颗粒

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供货总量 1000件
产地 江苏省/苏州市
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产品详情

“高 f铪靶材 磁控溅射 PVD真空镀膜靶材 颗粒”参数说明

是否有现货: 加工定制:
种类: 其它 特性: 有色金属
用途: PVD磁控溅射靶材 型号: Hf-001
规格: 圆、片、块、绑定 商标: Szzzna
包装: 真空包装 产量: 10000

“高 f铪靶材 磁控溅射 PVD真空镀膜靶材 颗粒”详细介绍

高纯Hf铪靶材 磁控溅射 PVD真空镀膜靶材 颗粒 纯度99.99%  科研实验材料 尺寸定制 背板绑定服务

 

 

Hf铪靶材,一种精密的磁控溅射靶材

 

一、Hf铪靶材,作为一种精密的磁控溅射靶材,在现代科研、高等教育实验室以及工业镀膜技术中占据着举足轻重的地位。其材料特性——高纯度、优异的物理性能以及化学稳定性,共同构筑了Hf靶材在多个领域广泛应用的基础。我司专注研发与生产,铸就行业精品。公司生产单材质靶材、电子束蒸发颗粒材料如下:

SINGLE ELEMENTS 单材质靶材、电子束蒸发颗粒

Aluminum (Al)

Nickel (Ni)

Antimony (Sb)

Niobium (Nb)

Arsenic (As)

Osmium (Os)

Barium (Ba)

Palladium (Pd)

Beryllium (Be)

Platinum (Pt)

Boron (B)

Rhenium (Re)

Cadmium (Cd)

Rhodium (Rh)

Carbon (C)

Rubidium (Rb)

Chromium (Cr)

Ruthenium (Ru)

Cobalt (Co)

Selenium (Se)

Copper (Cu)

Silicon (Si)

Gallium (Ga)

Silver (Ag)

Germanium (Ge)

Tantalum (Ta)

Gold (Au)

Tellurium (Te)

Hafnium (Hf)

Tin (Sn)

Indium (In)

Titanium (Ti)

Iridium (Ir)

Tungsten (W)

Iron (Fe)

Vanadium (V)

Lead (Pb)

Yttrium (Y)

Magnesium (Mg)

Zinc (Zn)

Manganese (Mn)

Zirconium (Zr)

Molybdenum (Mo)

 

 

二、材料特性解析

1高纯度Hf铪靶材的纯度是其核心价值所在。市场上 的Hf靶材往往能达到99.95%甚至高的纯度标准,这意味着在制备过程中几乎去除了所有杂质元素,从而确保了溅射过程中产生的Hf离子束的纯净度。高纯度不仅提升了镀膜或薄膜的均匀性和一致性,还减少了因杂质引起的性能下降或缺陷,为科研和工业应用提供了可靠保障。

2良好的物理性能Hf铪作为一种过渡金属,具有适中的密度和较高的熔点(约2233°C)。适中的密度使得Hf靶材在溅射过程中能够保持稳定的溅射速率和溅射效率,而高熔点则确保了靶材在高温环境下的稳定性和耐久性。这些物理性能共同赋予了Hf靶材在极端条件下工作的能力,满足了高精度、高稳定性镀膜工艺的需求。

3化学稳定性Hf铪靶材在多种化学环境中均表现出良好的稳定性,不易与常见气体或溶液发生反应。这种化学稳定性使得Hf靶材在镀膜过程中能够保持其原有的物理和化学性质,避免了因化学反应导致的性能变化或污染问题。

三、行业应用优势

1科研与高校实验室:在科研和高校实验室中,Hf靶材因其高纯度和优异的性能成为制备高质量薄膜、纳米材料以及进行材料表面改性的理想选择。科研人员可以利用Hf靶材进行各种基础研究和应用开发,探索新材料、新技术和新工艺,推动科技进步和产业升级。

2工业镀膜:在工业镀膜领域,Hf靶材的应用范围广泛且深入。无论是半导体制造中的栅极材料、光学器件中的反射膜还是太阳能电池中的电极材料,Hf靶材都能凭借其高精度和高稳定性为产品提供性能保障。特别是在需要高纯度、高均匀性和高附着力的镀膜工艺中,Hf靶材是不可或缺的关键材料。

3定制化服务:随着市场需求的多样化和个性化发展,Hf靶材供应商开始提供灵活和定制化的服务。不同规格、不同纯度和不同加工方式的Hf靶材应运而生,以满足不同客户在不同应用场景下的特定需求。这种定制化服务不仅提升了Hf靶材的市场竞争力,还促进了其在广泛领域的应用和发展。

综上所述,Hf铪靶材以其高纯度、良好的物理性能和化学稳定性在科研、高校实验室以及工业镀膜等领域展现出了巨大的应用潜力和价值。随着技术的不断进步和市场需求的持续增长,Hf靶材必将在未来发展中发挥重要的作用,为科技进步和产业发展贡献力量。

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