高温蒸镀仪，KT-Z1650CVD，石英＋不锈钢腔体，触摸屏控制，工艺储存功能，自动电控挡板保护样品

在厚度为2nm (20埃)或厚时膜是连续的。通常的沉积形式是加热碳或石墨棒。棒具有特定的形状以达到最大电流密度，使得它具有足够的温度来引起蒸发。基于这点，出现了细小的、亮的、热的碳颗粒。此系统需要用扩散泵或涡轮分子泵达到1x10-4 mbar或高的真空度。
涡轮分子泵在K950X中作为标准配置，此泵作为机械真空泵的后级泵，真空为全自动控制，真空度 1x10-5 mbar。可进行预热及除气控制，同时用瞬时蒸发开关使脉冲蒸发在用户控制下进行。
标准的旋转样品台可进行倾斜调节，非常容易适应各种样品座

高温真空蒸镀仪，是一款小型真空镀膜仪，特别适合蒸镀一些轻金属，如, 和Li等。同时也可对样品进行镀碳处理，Z大可处理的样品直径为50mm.。标准的旋转样品台可进行倾斜调节，非常容易适应各种样品座。可选的样品台具有特殊的凹槽，可放置标准的载玻片，这在“石棉分析"需要镀碳层时尤为有利。 
碳棒头在仪器中作为标准件。这是一个“快速释放头"，使用户在选择金属蒸发附件、碳丝及光阑清洗头时可方便地更换。放气系统具有互锁装置，避免样品受到干扰。涡轮分子泵可安装在任何轴上，并且可“关闭"直接通大气。