高纯贵金属铱溅射靶材(Ir)
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产品详情
“高纯贵金属铱溅射靶材(Ir)”参数说明
是否有现货: | 否 | 类型: | 贵金属 |
型号: | Ir01 | 规格: | 圆形方形颗粒 |
商标: | ZK | 包装: | 真空包装 |
尺寸: | 2英寸3英寸4英寸6英寸 | 产量: | 260 |
“高纯贵金属铱溅射靶材(Ir)”详细介绍
高纯贵金属铱溅射靶材(Ir)
产品名称: 铱靶、铂靶、钯靶、银靶、铑靶
牌号规格: Pt1、Pd1、Ag1、Ir1、Rh1
用途 : 主要用于磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等领域。
产 品 详 情
随着靶材在磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等产业的发展,我们加大在稀贵金属靶材研发和制备方面的投入力度,通过原料控制、真空感应熔炼、挤压、轧制、真空热压烧结、热等静压、放电等离子体烧结等不同工艺, 并采用严格的质量控制过程,我们能够制备多种靶材并能一直保持着批量供货。
铱溅射靶材Iridium (Ir)
规格尺寸:
形状 圆形、方形
尺寸 Φ50~170mm
厚度 3~15mm
纯度 ≥3N5
注:具体尺寸请联系销售。
产品名称: 铱靶、铂靶、钯靶、银靶、铑靶
牌号规格: Pt1、Pd1、Ag1、Ir1、Rh1
用途 : 主要用于磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等领域。
产 品 详 情
随着靶材在磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等产业的发展,我们加大在稀贵金属靶材研发和制备方面的投入力度,通过原料控制、真空感应熔炼、挤压、轧制、真空热压烧结、热等静压、放电等离子体烧结等不同工艺, 并采用严格的质量控制过程,我们能够制备多种靶材并能一直保持着批量供货。
铱溅射靶材Iridium (Ir)
规格尺寸:
形状 圆形、方形
尺寸 Φ50~170mm
厚度 3~15mm
纯度 ≥3N5
注:具体尺寸请联系销售。
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