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GJL4N铬靶铬靶管铬片高纯电解铬

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“GJL4N铬靶铬靶管铬片高纯电解铬”参数说明

工业用途: 冶金级 铬含量: 99.99
应用: 真空溅射镀膜 型号: Cr99.99
规格: 平面靶旋转靶 商标: 冠金利
包装: 真空包装 工艺: 真空熔炼
产量: 1000

“GJL4N铬靶铬靶管铬片高纯电解铬”详细介绍

  北京冠金利新材料科技有限公司长期为您供应高纯铬靶,高纯铬靶材以及高纯铬相关产品,高纯铬靶材产品详情如下:GJL4N铬靶铬靶管铬片高纯电解铬

  1、  高纯铬靶的纯度为:9.5%,9.8%,9.95%,9.9%

  2、  高纯铬靶的常用规格:高纯铬管靶,高纯铬环靶,长度20-400mm,直径:50-120mm,管厚:5-10mm.

  3、  高纯铬靶的生产工艺:热等静压,粉末冶金。

  4、  高纯铬颗粒:常用粒度有:1-3mm,3-5mm,40目,-20-300目,40#,60#,80#,200#等用于蒸发镀膜,纯度高,蒸镀效果好。

  5、  高纯铬条:?0.3,?0.5,?1.0等。GJL4N铬靶铬靶管铬片高纯电解铬

  6、  高纯铬的相关参数:Formula:Cr

  7、  外观:银灰色

  8、  规格:粒、粉、靶材,条。

  9、  密度:7.2

  10、  熔点:1890℃GJL4N铬靶铬靶管铬片高纯电解铬

  蒸发温度:Evaporation Temperture:1430℃

  1.北京冠金利新材料科技有限公司其它材料:各种高纯金属靶材、合金靶材、陶瓷靶材、镀膜材料。金属靶材:铝靶Al、银靶Ag、钴靶Co、铬靶Cr、铜靶Cu、镍靶Ni、钛靶Ti、锌靶Zn、镁靶Mg、铌靶Nb、锡靶Sn、铟靶In、铁靶Fe、锆铝靶Zr、钛铝靶Ti、锆靶Zr、钽靶Ta、锗靶Ge、硅靶Si、钨靶W、铪靶Hf、钆靶Gd、钐靶Sm、镝靶Dy、铈靶Ce、钇靶Y、镧靶La 金靶Au 等。

  合金靶材:钛铝Ti-Al、铝硅Al-Si、铝铜Al-Cu、铝钛Al-Ti、银铜Ag-Cu、铝镁Al-Mg、钴铁硼Co-Fe-B、铜铟镓Cu-In-Ga、铁锰Fe-Mn、铟锡In-Sn、钴铁Co-Fe、镍钴Ni-Co、镍铁Ni-Fe、镍铬Ni-Cr、镍锆Ni-Zr、镍铝Ni-Al、镍铜Ni-Cu、镍钒Ni-V、钨钛W-Ti、锌铝Zn-Al、铝钛硼Al-Ti-B、铝钪Al-Sc、钒铝 V-Al、铁V-Al-Fe、铜锡Cu-Sn、锆铝Zr-Al、钒铝V-Al、硼铁B-Fe等。

  陶瓷靶材GJL4N铬靶铬靶管铬片高纯电解铬

  ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶,、二氧化铪靶,二硼化钛靶,二硼化锆靶,三氧化钨靶,三氧化二铝靶,五氧化二钽,五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化钛靶,碳化硅靶,铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶、等陶瓷靶材。产品通过各种方法(磁控溅射、真空镀等)应用真空镀膜的各种领域:科学研究,航天航空,汽车,微电子,集成电路产业,光源,光学,装饰,平面显示器产业,信息存储产业,数据存储等。

  注所有产品规格可根据客户要求定做。