由石英玻璃或特种石英玻璃制成，通过产生185nm和254nm高强度UV光，分解有机分子（污染物）表面达到原子级清洗。185nm的光可以将氧分子O2转变成活性的O3臭氧分子。254nm的光同时激发表面的有机分子，使其容易被臭氧分子吸收并分解。由于臭氧分子存在时间短并且同时也被254nm光分解，样品台可以调节样品到灯管的离来优化性能， 分解有机污染物，然后形成CO2和H2O蒸气，同时也将臭氧分子转变成氧分子，UV清洗，改质。公司提供有SEN、EYE、GS、HERAEUS等多个品牌，也可根据客户的参数或样灯特殊订做。

紫外臭氧清洗机灯管、紫外臭氧清洗灯、紫外光清洗灯管、紫外线清洗改质灯 

用于处理ITO,FTO，光学玻璃，半导体，硅片，金属，陶瓷，聚合物等基片表面的有机物
，可以提高基片表面附着力或者改善表面亲水性，在衬底涂层或者镀膜，基片键合等方
面有广泛应用。

低压紫外汞灯能同时发射波长254nm和185nm的紫外光，这两种波长的光子能量可以直接
打开和切断有机物分子中的共价键，使有机物分子活化，分解成离子、游离态原子、受
激分子等。与此同时，185nm波长紫外光的光能量能将空气中的氧气（O2）分解成臭氧（
O3）；而254nm波长的紫外光的光能量能将O3分解成O2和活性氧（O），这个光敏氧化反
应过程是连续进行的，在这两种短波紫外光的照射下，臭氧会不断的生成和分解，活性
氧原子就会不断的生成，而且越来越多，由于活性氧原子（O）有强烈的氧化作用，与活
化了的有机物（即碳氢化合物）分子发生氧化反应，生成挥发性气体（如CO2，CO，H2O
，NO等）逸出物体表面，从而 清除了粘附在物体表面上的有机污染物。

应用领域

■在进行薄膜沉积之前先进行基片清洗。清除浮渣和稳定化处理光刻胶。真空度密
封。

■清洗硅芯片，透镜，反光镜，太阳能面板，冷轧钢，惯性引导零件和 GaAs芯片

■清洁焊剂，混合电路以及平板LCD显示器

■蚀刻特氟隆，氟橡胶以及其它有机材料   

■增强GaAs 和Si氧化物钝化表面

■增强玻璃的除气作用

■基片蓝膜去除

■增强塑料表面的镀膜的粘附性

■基片终测后墨迹清楚

■去除光刻胶

■平板显示器/液晶显示器

■去除光刻机台上的光刻胶残留物

■在电路板封装和打片之前清洗）

■光纤

■增强表面亲水特性

■为生物科学应用做清洗和消毒

■光学透镜

■其它应用